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【テクニカルセミナー】
表面処理のNEWアプローチ！ 水溶液電解を利用した無機化合物皮膜の作製と分析
No.44180
| 対象 | ●薄膜、めっきなど表面処理に携わる中小製造業経営者・開発担当者の方 ●無機、金属の皮膜の分析評価技術に興味のある方 ※対象者優先のため、対象外の方、士業・コンサルタントなど当館が経営の専門家と認める方のご参加は、申込状況によりお断りする場合がございます。 |
|---|---|
| 開催日時 | 2024年7月23日(火) 14:30-16:30 |
| 開催場所 | 大阪産業創造館6F 会議室E ※受付開始は、開始時間の30分前です。 |
| 定員 | 40名 満席になり次第、締め切ります |
| 講師 | 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 森之宮センター 電子材料研究部 表面工学研究室 研究フェロー 千金正也 氏 |
| 料金 | 無料 ★ユーザー登録1件につき1名様しか参加できません ★お連れ様は別途ユーザー登録と申込が必要です |
| お問合せ先 | ■内容・技術に関するお問合せ 地方独立行政法人大阪産業技術研究所 森之宮センター 〒 536-8553 大阪市城東区森之宮1-6-50 TEL：06-6963-8331 9:00-17:30（土日祝を除く） ■お申込みに関するお問合せ 大阪産業創造館イベント・セミナー事務局 〒541-0053 大阪市中央区本町1-4-5 大阪産業創造館 TEL:06-6264-9911 FAX:06-6264-9899 E-MAIL:ope@sansokan.jp 受付時間:月‐金 10:00‐12:00 13:00‐17:30 (祝日除く) 交通機関：Osaka Metro「堺筋本町駅」下車 「中央線」1号出口「堺筋線」12号出口 各徒歩約5分 |
概要
無機化合物皮膜の代表例である「セラミックス膜」は耐久性に優れており、その中でも酸化チタン膜は新規太陽電池の電極材料、光触媒などに利用され、またジルコニア皮膜は耐熱膜、断熱膜等さまざまな形で利用されています。
しかし、そういったメリットがある一方で、従来一般的であった製膜方法は真空蒸着などの気相法であり、真空環境を必要とするため製膜コストが高く、また、厚膜化は困難でした。そこで、セラミックス膜を「水溶液電解」によって製膜できる技術をご紹介します。
電解めっきと同様の工程で製膜できるため、真空装置を必要としません。この技術を応用して導電性の低い酸化チタンやジルコニウム化合物を製膜した研究事例も解説します。プラスチックやガラスなどへの光触媒コーティングとしてビジネスへの展開も期待できる技術です。
本技術の紹介と同時に、大阪産業技術研究所にて製造業の皆様にご活用いただける「Ｘ線回折分析」・「Ｘ線光電子分光分析」・「走査型電子顕微鏡観察」など各種分析手法の紹介も行います。
しかし、そういったメリットがある一方で、従来一般的であった製膜方法は真空蒸着などの気相法であり、真空環境を必要とするため製膜コストが高く、また、厚膜化は困難でした。そこで、セラミックス膜を「水溶液電解」によって製膜できる技術をご紹介します。
電解めっきと同様の工程で製膜できるため、真空装置を必要としません。この技術を応用して導電性の低い酸化チタンやジルコニウム化合物を製膜した研究事例も解説します。プラスチックやガラスなどへの光触媒コーティングとしてビジネスへの展開も期待できる技術です。
本技術の紹介と同時に、大阪産業技術研究所にて製造業の皆様にご活用いただける「Ｘ線回折分析」・「Ｘ線光電子分光分析」・「走査型電子顕微鏡観察」など各種分析手法の紹介も行います。
表面処理加工をされている製造業の皆さまは、ぜひお越しください。
内容
■ 水溶液電解による製膜の考え方と利点
■ 酸化チタン厚膜の作製（色素増感太陽電池をターゲットとして）
■ 間接電析法（非導電性基板へも製膜可能な方法）の紹介
■ ジルコニウム化合物膜およびジルコニア膜の作製と発光特性検討
■ 酸化チタン厚膜の作製（色素増感太陽電池をターゲットとして）
■ 間接電析法（非導電性基板へも製膜可能な方法）の紹介
■ ジルコニウム化合物膜およびジルコニア膜の作製と発光特性検討
ご注意
【お申込みについて】
・お申込みは原則【同一会社から2名様まで】でお願いします。
※お申込みはお一人ずつ必要です。ユーザー登録1件につき1名様しか参加できません。
・超過のお申込につきましては、ご入場いただけないことがございますので、あらかじめご了承ください。
・お申込みは原則【同一会社から2名様まで】でお願いします。
※お申込みはお一人ずつ必要です。ユーザー登録1件につき1名様しか参加できません。
・超過のお申込につきましては、ご入場いただけないことがございますので、あらかじめご了承ください。
個人情報の取り扱いについて
本セミナーは、地方独立行政法人大阪産業技術研究所との共催セミナーです。
お申込みいただくお客様の情報は共有し、
共催先関連の催事情報をお知らせするダイレクトメール等でのご案内に利用いたします。
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Osaka Metro「堺筋本町駅」下車
「中央線」1号出口「堺筋線」12号出口 各徒歩約5分
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Osaka Metro「堺筋本町駅」下車
「中央線」1号出口「堺筋線」12号出口 各徒歩約5分
注意事項
※注意事項※
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●お申込はお一人様につき一件のみ承っています。
お連れ様がいらっしゃる場合は別途ユーザー登録の上、お申込をお願いいたします。下記アンケート回答欄に、お連れ様の出席希望をお書きになれらましても、申込受付はいたしかねます。ご了承ください。
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●報道関係者などの事前承認を受けた方を除き、当館が主催するセミナー・イベントの無断録音・撮影は禁止されています。
キャンセルについて
- セミナーなどお席に限りがある催事について、ご欠席される場合は必ず前日までにキャンセル処理をしていただきますようお願いいたします。
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