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No.32591
対象 | 中小製造業・経営者及び経営幹部・開発担当者 ※対象者優先のため、対象外の方、士業・コンサルタントなど当館が経営の専門家と認める方のご参加は、申込状況によりお断りする場合がございます。 ※お申込み多数の場合、中小製造業の方を優先させて頂きます。 |
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開催日時 | 2021年3月4日(木) 14:00-16:00 |
開催場所 | 大阪産業創造館5F 研修室AB ※受付開始は、開始時間の30分前です。 |
定員 | 20名 満席になり次第、締め切ります |
講師 | 特任教授 新井 学 博士(工学) 名古屋大学 未来材料・システム研究(IMaSS) 未来エレクトロニクス集積研究センター(CIRFE) 研究戦略部 副リーダー |
申込締切日 | 受付締切:前日まで |
料金 | 2,000円/名 消費税込み ※当日はお釣りの必要がないようご準備ください ※ユーザー登録1件につき1名様しか参加できません。 |
お問合せ先 | 大阪産業創造館イベント・セミナー事務局 〒541-0053 大阪市中央区本町1-4-5 大阪産業創造館13階 TEL:06-6264-9911 FAX:06-6264-9899 E-MAIL:ope@sansokan.jp 受付時間:月‐金 10:00‐17:30 (祝日除く) 交通機関:Osaka Metro「堺筋本町駅」下車 「中央線」1号出口「堺筋線」12号出口 各徒歩約5分 |
家電・モバイル等の小型化を
急速に推し進める可能性を持つ窒化ガリウム
主に青色発光ダイオードの材料として用いられている半導体材料の「窒化ガリウム(GaN)」。
最近では窒化ガリウムを搭載したUSB充電器が発売されるなど、専門の業界以外の方も、耳にすることが増えてきました。
家電・モバイル等の小型化を急速に推し進める可能性を持つ窒化ガリウムですが、
製品開発に活かすためには、どういう性能で何をもたらすのかを正確に知る必要があります。
本セミナーでは、
・窒化ガリウムの普及による身近な電化製品の変化
・5Gの普及とともに注目される理由
といった内容を、日本でも数少ない専門の講師をお招きし、解説して頂きます。
1.窒化ガリウムについての基礎知識
1.1 半導体素子として優れた物性の紹介
1.2 結晶成長技術
2.窒化ガリウムを用いた製品の応用展開
2.1 光応用照明、レーザー、深紫外光殺菌
2.2 マイクロ波(通信)応用 5Gを支える高周波デバイス
2.3 パワーデバイス応用 ACアダプタから電気自動車用途まで
3.GaNコンソーシアムについて
特任教授 新井 学 博士(工学)
名古屋大学
未来材料・システム研究(IMaSS)
未来エレクトロニクス集積研究センター(CIRFE)
研究戦略部 副リーダー
【略歴】
1997年東北大学工学研究科電気・通信工学博士課程後期課程修了。
同年、新日本無線株式会社に就職。
シリコンカーバイド(SiC)を使った高周波デバイスやパワー用とのショットキーダイオードを開発。
NEDOや内閣府の国プロに参画。
2020年7月から現職。窒化ガリウムの結晶成長およびデバイス研究を推進するためのプロジェクト運営を支援する。
GaNコンソーシアムでは企画主幹を務める。